|
|
|
|
|
|
| 装备编号 | WHRSM2012XG008 |
| 购买时间 | 2011年 |
| 负责人 | 王静 |
| 联系电话 | 027-87199209 |
| 简要功能 | 一、设备简介 本实验测试分析系统用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。电子枪发射出的电流激发到样品表面，产生二次电子，通过信号收集与信号转换到达屏幕，可看到样品表面的同步扫描照片，实现对样品表面的形貌进行微观表征。 二、主要技术参数 1、放大倍数： 6x – 1，000，000 x 2、分辨率 ： 二次电子(SE)成像： 3、高真空模式： 30kV时 3.0nm；3kV时 8.0nm 4、低真空模式： 30kV时3.0nm；3kV时 10.0nm ESEM环境真空模式：30kV时 3.0nm 5、背散射电子(BSE)成像： 30kV时 4 nm 6、能谱仪 ： 20mm2大面积活区 7、在MnKα处的分辨率： 保证优于127eV 8、分析元素范围： Be4-Pu94 |
| 其他备注 | 214471265@qq.com |
